其实28nm光刻机这样的说法不对



散仙谷 http://www.webjb.org/webjb/sanxian/



送交者: 吴戈 于 2022-06-18 02:47:12

回答: 国内删除所有有关攻克28nm光刻机的报道。应该是 由 于 2022-06-18 02:29:15

其中有多项关键技术,首先是DUV光源,193nm,可以用于28nm乃至14nm制程,勉强可用于7nm,但已经很困难了,7nm及以下还得EUV,13.5nm。

其次要双工件台,这方面中国已经不错。

最近炒的是浸液系统,另一项关键技术。

现在全自主大概能制作45nm产品,去美化大约能到28nm,但良品率可能还不行。里面需要的技术太多,而美国人手里掌握的又占最大比例。

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