其实28nm光刻机这样的说法不对
散仙谷 http://www.webjb.org/webjb/sanxian/
送交者: 吴戈 于 2022-06-18 02:47:12
回答: 国内删除所有有关攻克28nm光刻机的报道。应该是 由 于 2022-06-18 02:29:15
其中有多项关键技术，首先是DUV光源，193nm，可以用于28nm乃至14nm制程，勉强可用于7nm，但已经很困难了，7nm及以下还得EUV，13.5nm。
其次要双工件台，这方面中国已经不错。
最近炒的是浸液系统，另一项关键技术。
现在全自主大概能制作45nm产品，去美化大约能到28nm，但良品率可能还不行。里面需要的技术太多，而美国人手里掌握的又占最大比例。
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