余鹏鲲:国产光刻设备为何引起轩然大波 该如何宣传技术突破



散仙谷 http://www.webjb.org/webjb/sanxian/



送交者: TPKM 于 2018-12-04 16:28:31

回答: ZT:余鹏鲲:国产光刻设备为何引起轩然大波 该如何宣传技术突破 由 TPKM 于 2018-12-04 08:26:56

导读
消息刚出的第一天舆论的反应也几乎都以赞扬为主,可很快由于报道中缺少一些关键信息质疑的声音多了起来,而且其中不乏理性的声音。但在针对本次自主光刻设备是否能应用到现有的电子芯片生产中以及该自主光刻设备是否是“世界首台”的质疑中,该行业匿名专家的批评显得过于机械和严厉了。
【文/ 科工力量专栏作者 余鹏鲲】

。。。

12月1日网络上出现了一篇标题出现了“真相”字眼的文章,文章引用了来自匿名专家的观点,提出了不少富于建设性的问题。比如光刻分辨力22纳米就是10纳米芯片典型工艺的问题就是该文首先提出的。

不过在针对本次自主光刻设备是否能应用到现有的电子芯片生产中以及该自主光刻设备是否是“世界首台”的质疑中,该行业匿名专家的批评显得过于机械和严厉了。

首先对于能否应用到现有电子芯片生产中的问题,该文章的说法是不能。据他所引用的匿名专家所说:“这个技术和我们熟悉的半导体集成电路完全无关,无法应用在集成电路领域”“适用于特殊应用,类似的应用范围是光纤领域,5G天线,或者是他们自己演示的用于科研领域的单光子探测器”。

此外该文还引述了水木社区的一个帖子,发帖的网友展示了据说是截自知乎的一个图片。图片中的知乎用户宣称自己就来自于中科院光电所,该设备“可以做简单的线,点,光栅部件,拿来做刻芯片这种超级复杂的IC制造是完全没有可能的”,该用户同时还抱怨媒体胡乱报道进行炒作。

对于该文的质疑,笔者认为所谓知乎“深喉”爆料可信度不高,甚至目前连是不是真的有这样一个回答都是个问题,不值一驳。该匿名专家的话倒是非常符合该技术过去的一些应用情况。

那这次国产光刻设备呢?该文章在这里打了个马虎眼,说该技术只能生产简单元件,问题是简单元件本来就是模糊不清的定义。不过早在11月30日凌晨央视13频道的《午夜新闻栏目》中,该项目副总设计师胡松就说到该设备可以加工十毫米乘十毫米范围的芯片。



(该项目副总设计师披露的设备性能情况)

当然你要硬说面积100平方毫米的芯片是简单的元件也不是没有道理,不过大多数探测器和传感器也比这要小。甚至连苹果的A11芯片核心面积也就87.66平方毫米,而华为手机搭载的麒麟970芯片也就是96.72平方毫米。

用动辄200-300平方毫米甚至更高的桌面CPU或显卡芯片来衡量该国产设备,把不符合这一标准的芯片都叫做简单元件似乎有点过分苛刻了。

该文同时还指出该项目宣称的世界首台是有问题的。一方面文章继续引述知乎用户的话说“这个设备实现了激光束22nm(国内肯定是领先的,国际上肯定是落后的)”。一方面受访的匿名专家表示“这一技术并非中国首创,国外有很多实验室也做出了成品验证机,效果还优于中科院,甚至都达不到国际领先的程度”。

同时文章还把该专家提供的一幅国外同样使用表面等离子体光刻技术的图案与新闻中自主光刻设备的图案进行了对比,认为“从他们演示的图形就可以看到LWR粗糙,歪歪斜斜,图像保真度非常低,只能作为技术验证,不能作为真实生产,更不要说量产可能了”。

由于该专家未能公布图像来源,笔者也未能在英文文献中找到类似的图形,姑且认为该匿名专家提供为真,并将对比图贴在下面。



(左图为该匿名专家提供的疑似国外50nm同原理的图像,右图为该自主光刻设备新闻发布时的配图)

笔者认为从种种迹象而言,该匿名专家确实专业,非常了解国外该技术的现状,不过没有充分的了解国内本次自主项目的一些相关情况。笔者注意到该专家提供的国外技术团队的图片角标为50纳米,而国内的为22纳米。

显然线宽更小的样品放大倍数必须更高才能生成同样大小的图案,而且新闻中摄像机与图片的法线夹角非常大,也很容易让人产生歪歪斜斜的印象。下图中笔者从该所研究员在《科学通报》发表的著名文章《表面等离子体超衍射光学光刻》中截取了自主技术分别在线宽45纳米和22纳米照片,并与该匿名专家提供的疑似50纳米线宽图像进行对比,事实证明45纳米线宽下自主工艺与疑似国外的质量差距非常小。





(左上图为该匿名专家提供的疑似国外50nm同原理的图像,右上图为45nm自主工艺的图像,左下角为自主工艺22nm的图像,右下图为该自主光刻设备新闻发布时的配图,展板上的图片疑似与左下角同一张图片,由于角度问题显得线路更歪一些)

同时,该匿名专家也未能提供该国外实验的背景。要知道实验室研究主要追求的是速度而非良品率。因此实验操作人员很难像工业生产一样按照最严格的操作流程来,不能简单地就以一幅图像下结论。

同时,笔者未能找到采用相同原理且线宽同样达到或超过22纳米的英文文献,所以暂时不能就该设备是否是“世界首台分辨力最高的紫外超分辨光刻装备”下结论。但是笔者同时认为只要国外没有公开这样的设备,哪怕所谓的分辨力最高有强行蹭“世界首台”的嫌疑,也不能说这就是假的。

面对技术突破要有雅量也要客观评论

当国内科研工作者做出好的成果时,宣传部门出于及时向全国人民报喜的考虑,往往不能提供反面的评论。即使提出一些问题,更多的还是以普通人的视角去提出。因此公开之后,往往会有始料未及的批评,甚至像贺建奎“基因编辑婴儿”一样出现舆论反转。

因此做出技术突破的部门要对批评更有雅量,甚至于主动地自我批评,在公布时适当对成果的局限性做一些介绍,如此公众方能更加科学理性的进行支持。

同时批评者也应当尽可能地从该项目本身出发,就事论事公正客观地看待国内的技术突破。同时批评者除内部曝料人外即使出于种种原因不实名进行评论,也应当尽可能公开依据的来源以方便读者真正做出自己自己的判断找到真相。

阅读次数:25

所有跟贴:


加跟贴

笔名: 密码: 注册笔名请按这里
标题:   分类主题名:

内容(可选项):

URL(可选项):
URL标题(可选项):
图像(可选项):



所有跟贴·加跟贴·ɢɹ
Copyright © 2000 - 2005 webjb.org