新凯来光刻机跳票:背后的困境
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送交者: testtesttest 于 2025-10-17 11:05:44
回答: 新凯来子公司发布EDA软件,2万多名工程师已在使用 由 于 2025-10-17 10:59:13
新凯来光刻机跳票:背后的困境
新凯来作为半导体设备领域的重要企业,一直被寄予厚望。但此次光刻机的 “跳票”,实则是其面临重重困境的体现。从技术验证角度看,尽管新凯来的刻蚀设备宣称达到 7nm 精度,但设备需在头部晶圆厂完成 2000 小时连续生产测试,目前公开记录仅 1500 小时。供应链方面也问题重重,其 ALD 设备依赖的高纯度气体管路国产替代率仍不足 15%。而光刻机产业链更是尚未完全打通,物镜系统、精密运动控制等核心部件依赖国际供应链,这无疑是卡住了新凯来光刻机发展的脖子。
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